Process for producing silicon epitaxial wafer

WO2010035409 Art A1 1. April 2010

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010035409
Aktenzeichen: EP09815831
Anmeldetag: 2. September 2009
Veröffentlichung: 1. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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