Illumination system for euv microlithography

WO2010037437 Art A1 8. April 2010

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010037437
Aktenzeichen: EP09777062
Anmeldetag: 9. Juli 2009
Veröffentlichung: 8. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B5/09

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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