Silicon nitride ceramic material having an in-situ continuous gradient function, process for manufacture, properties and applications thereof
WO2010037891
Art A1
8. April 2010
Anmelder: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC) 🇪🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010037891
- Aktenzeichen
- EP09817323
- Anmeldetag
- 1. Oktober 2009
- Veröffentlichung
- 8. April 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C04B35/584C04B35/64
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
- Land
- 🇪🇸 Spanien
🇪🇸
Consejo Superior de Investigaciones Científicas
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