Vacuum evacuation system, substrate processing apparatus, method for manufacturing electronic device, and method for operating vacuum evacuation system
WO2010038416
Art A1
8. April 2010
Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010038416
- Aktenzeichen
- EP09817458
- Anmeldetag
- 29. September 2009
- Veröffentlichung
- 8. April 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- F04B37/08F25B9/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Canon Anelva Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Canon Anelva
Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.
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