Deposition apparatus, deposition method, and storage medium having program stored therein

WO2010038631 Art A1 8. April 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010038631
Aktenzeichen: EP09817667
Anmeldetag: 18. September 2009
Veröffentlichung: 8. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von