Two liquid-type urethane resin composition for polishing pad, polyurethane polishing pad obtained using the same, and method for producing polyurethane polishing pad

WO2010038724 Art A1 8. April 2010

Anmelder: DIC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010038724
Aktenzeichen: EP09817756
Anmeldetag: 29. September 2009
Veröffentlichung: 8. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C08G18/10B24B37/00C08G18/66C08G101/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: DIC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 DIC Corporation

DIC Corporation ist ein japanischer Chemiekonzern (früher Dainippon Ink and Chemicals) mit Schwerpunkt auf Druckfarben, Pigmenten und organischen Feinchemikalien.

3.020 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von