Urethane resin composition for polishing pad, polyurethane polishing pad, and method for producing polyurethane polishing pad
WO2010038725
Art A1
8. April 2010
Anmelder: DIC Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010038725
- Aktenzeichen
- EP09817757
- Anmeldetag
- 29. September 2009
- Veröffentlichung
- 8. April 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G18/10B24B37/00C08G18/76C08G101/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- DIC Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
DIC Corporation
DIC Corporation ist ein japanischer Chemiekonzern (früher Dainippon Ink and Chemicals) mit Schwerpunkt auf Druckfarben, Pigmenten und organischen Feinchemikalien.
3.020 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.