Cmos device comprising nmos transistors and pmos transistors having increased strain-inducing sources and closely spaced metal silicide regions
WO2010039231
Art A1
8. April 2010
Anmelder: Globalfoundries Inc. 🇰🇾
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010039231
- Aktenzeichen
- EP09789386
- Anmeldetag
- 30. September 2009
- Veröffentlichung
- 8. April 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/336H01L21/8238H01L21/8234H01L29/78
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Globalfoundries Inc.
- Land
- 🇰🇾 KY
🇰🇾
GlobalFoundries
GlobalFoundries ist ein Halbleiterhersteller, der als Auftragsfertiger (Foundry) Chips für zahlreiche Kunden produziert; die Gesellschaft ist auf den Cayman Islands registriert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Software. Die Anmeldungen von 2000 bis 2018 betreffen unter anderem Kontaktstrukturen und Fertigungsverfahren für Halbleiterbauelemente.
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