Laser apparatus, phototherapy apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, and object inspection apparatus

WO2010041434 Art A1 15. April 2010

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010041434
Aktenzeichen: EP09818974
Anmeldetag: 7. Oktober 2009
Veröffentlichung: 15. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/39H01S3/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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