Composition for forming resist underlayer film for lithography, which contains fluorene-containing resin

WO2010041626 Art A1 15. April 2010

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010041626
Aktenzeichen: EP09819160
Anmeldetag: 5. Oktober 2009
Veröffentlichung: 15. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G61/02C08L35/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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