Antireflective film formation method, antireflective film, and film formation device

WO2010044265 Art A1 22. April 2010

Anmelder: ULVAC, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010044265
Aktenzeichen: EP09820443
Anmeldetag: 14. Oktober 2009
Veröffentlichung: 22. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G02B1/11B32B7/02B32B9/00C23C14/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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