Method and device for inspecting wafer pattern
WO2010044358
Art A1
22. April 2010
Anmelder: Kabushiki Kaisha TOPCON 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010044358
- Aktenzeichen
- EP09820536
- Anmeldetag
- 30. September 2009
- Veröffentlichung
- 22. April 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kabushiki Kaisha TOPCON
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kabushiki Kaisha Topcon
Topcon ist ein japanischer Hersteller von Mess-, Vermessungs- und ophthalmologischen Geräten sowie Positionierungstechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik sowie Medizintechnik und Gesundheit, ergänzt durch Software und Optik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2017.
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