Phenolic hydroxyl group-containing polyimide resin and photosensitive resin composition using same

WO2010044381 Art A1 22. April 2010

Anmelder: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010044381
Aktenzeichen: EP09820559
Anmeldetag: 9. Oktober 2009
Veröffentlichung: 22. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C08G73/10G03F7/004G03F7/023H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Kayaku

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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