Method and apparatus for determining a photolithography process model which models the influence of topography variations

WO2010044946 Art A1 22. April 2010

Anmelder: Synopsys, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010044946
Aktenzeichen: EP09820951
Anmeldetag: 11. August 2009
Veröffentlichung: 22. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Synopsys, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Synopsys

Synopsys ist ein US-amerikanischer Anbieter von Software für den Chip- und Systementwurf (EDA) mit Sitz in Kalifornien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Optik und Elektronik für Entwurfswerkzeuge. Anmeldungen reichen von 2000 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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