Apparatus for cleaning substrate for magnetic recording medium, and method for cleaning substrate for magnetic recording medium

WO2010047119 Art A1 29. April 2010

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010047119
Aktenzeichen: EP09821819
Anmeldetag: 22. Oktober 2009
Veröffentlichung: 29. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G11B5/84B08B1/04B08B5/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Verfahrens- & Trenntechnik

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