Photosensitive resin composition, method for forming silica coating film, and apparatus and member each comprising silica coating film

WO2010047138 Art A1 29. April 2010

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010047138
Aktenzeichen: EP09821838
Anmeldetag: 16. März 2009
Veröffentlichung: 29. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/075C08G77/14G03F7/004G03F7/023G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von