Method for producing metal oxide thin film

WO2010047177 Art A1 29. April 2010

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010047177
Aktenzeichen: EP09821877
Anmeldetag: 28. August 2009
Veröffentlichung: 29. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C01B13/32C01G23/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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