Techniques for atomic layer deposition

WO2010048161 Art A2 29. April 2010

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Singh, Vikram, Papasouliotis, George D., Olson, Joseph C., Dickerson, Gary E. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010048161
Aktenzeichen: EP09822546
Anmeldetag: 20. Oktober 2009
Veröffentlichung: 29. April 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Varian Semiconductor Equipment Associates
Singh, Vikram
Papasouliotis, George D.
Olson, Joseph C.
Dickerson, Gary E.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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