Plasma processing device

WO2010050169 Art A1 6. Mai 2010

Anmelder: Sekisui Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2010050169
Aktenzeichen
EP09823282
Anmeldetag
26. Oktober 2009
Veröffentlichung
6. Mai 2010
Rechtsraum
WO
IPC
H05H1/24C23C16/50H01L21/205H01L21/3065
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Sekisui Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sekisui Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.

2.973 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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