Photosensitive resin composition and method for producing photosensitive resin used therein

WO2010050272 Art A1 6. Mai 2010

Anmelder: SHOWA DENKO K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010050272
Aktenzeichen: EP09823385
Anmeldetag: 8. Juli 2009
Veröffentlichung: 6. Mai 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C08F290/06C08G59/17G03F7/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHOWA DENKO K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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