Processes for producing dielectric film and semiconductor device, dielectric film, and recording medium

WO2010050292 Art A1 6. Mai 2010

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010050292
Aktenzeichen: EP09823405
Anmeldetag: 2. September 2009
Veröffentlichung: 6. Mai 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/318C23C14/06H01L21/822H01L21/8247H01L27/04H01L27/115H01L29/78H01L29/788H01L29/792

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

421 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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