Photosensitive insulating resin composition and cured product thereof

WO2010050357 Art A1 6. Mai 2010

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010050357
Aktenzeichen: EP09823470
Anmeldetag: 9. Oktober 2009
Veröffentlichung: 6. Mai 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/023

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von