Multilayer film sputtering device and multilayer film formation method

WO2010050359 Art A1 6. Mai 2010

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010050359
Aktenzeichen: EP09823472
Anmeldetag: 13. Oktober 2009
Veröffentlichung: 6. Mai 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

421 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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