Reference wafer for calibrating dark-field inspection device, method for fabricating reference wafer for calibrating dark-field inspection device, method for calibrating dark-field inspection device, dark-field inspection device, and wafer inspection method
WO2010050365
Art A1
6. Mai 2010
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010050365
- Aktenzeichen
- EP09823478
- Anmeldetag
- 15. Oktober 2009
- Veröffentlichung
- 6. Mai 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66G01B11/30G01N21/93G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
3.840 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.