Reflection-type mask blank for euv lithography
WO2010050518
Art A1
6. Mai 2010
Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010050518
- Aktenzeichen
- EP09823628
- Anmeldetag
- 28. Oktober 2009
- Veröffentlichung
- 6. Mai 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027G03F1/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Asahi Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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Vertreten von
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