High heat load optics with a liquid metal interface for use in an extreme ultraviolet lithography system

WO2010051234 Art A1 6. Mai 2010

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010051234
Aktenzeichen: EP09824041
Anmeldetag: 23. Oktober 2009
Veröffentlichung: 6. Mai 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von