Photolithographic reticles with electrostatic discharge protection structures

WO2010051286 Art A2 6. Mai 2010

Anmelder: Altera Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2010051286
Aktenzeichen
EP09824078
Anmeldetag
27. Oktober 2009
Veröffentlichung
6. Mai 2010
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/027G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Altera Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Altera Corporation

US-amerikanischer Hersteller programmierbarer Logikbausteine (FPGAs) für Kommunikations-, Industrie- und Rechenzentrumsanwendungen.

556 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von

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