Charged particle beam apparatus

WO2010052854 Art A1 14. Mai 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010052854
Aktenzeichen: EP09824555
Anmeldetag: 28. Oktober 2009
Veröffentlichung: 14. Mai 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66H01J37/20H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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