Pattern dimension measuring method and scanning electron microscope using same

WO2010052855 Art A1 14. Mai 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010052855
Aktenzeichen: EP09824556
Anmeldetag: 28. Oktober 2009
Veröffentlichung: 14. Mai 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/04G01N23/225H01J37/22H01J37/28H01L21/027H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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