Photosensitive resin composition and base
WO2010052882
Art A1
14. Mai 2010
Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010052882
- Aktenzeichen
- EP09824583
- Anmeldetag
- 2. November 2009
- Veröffentlichung
- 14. Mai 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G02B5/00G02B5/20G02F1/1335G03F7/031
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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