Plasma and thermal anneal treatment to improve oxidation resistance of metal-containing films

WO2010054075 Art A2 14. Mai 2010

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010054075
Aktenzeichen: EP09825408
Anmeldetag: 5. November 2009
Veröffentlichung: 14. Mai 2010
Rechtsraum: WO
IPC: B32B37/06B32B15/08B32B15/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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