Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method

WO2010055739 Art A1 20. Mai 2010

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010055739
Aktenzeichen: EP09788091
Anmeldetag: 29. September 2009
Veröffentlichung: 20. Mai 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von