Substrate processing method and substrate processing apparatus

WO2010058813 Art A1 27. Mai 2010

Anmelder: National University Corporation Nagaoka University, Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010058813
Aktenzeichen: EP09827594
Anmeldetag: 19. November 2009
Veröffentlichung: 27. Mai 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/452H01L21/3065H01L21/31H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: National University Corporation Nagaoka University
Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von