Substrate with multilayer reflection film, reflective mask blank and method for manufacturing reflective mask blank

WO2010061725 Art A1 3. Juni 2010

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010061725
Aktenzeichen: EP09828973
Anmeldetag: 11. November 2009
Veröffentlichung: 3. Juni 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/08G03F1/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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