Mask Blank Substrate

WO2010061828 Art A1 3. Juni 2010

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010061828
Aktenzeichen: EP09829076
Anmeldetag: 25. November 2009
Veröffentlichung: 3. Juni 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14C03C17/36H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von