Resist pattern coating agent and method for forming resist pattern

WO2010061833 Art A1 3. Juni 2010

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010061833
Aktenzeichen: EP09829081
Anmeldetag: 25. November 2009
Veröffentlichung: 3. Juni 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40C08F8/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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