Measurement pattern structure, processing pattern structure, substrate treatment apparatus, and substrate treatment method

WO2010062008 Art A1 3. Juni 2010

Anmelder: Korea Advanced Institute of Science and Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010062008
Aktenzeichen: EP09829215
Anmeldetag: 24. Februar 2009
Veröffentlichung: 3. Juni 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Advanced Institute of Science and Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 KAIST

Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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