Methods for selective permeation of self-assembled block copolymers with metal oxides, methods for forming metal oxide structures, and semiconductor structures including same

WO2010062568 Art A2 3. Juni 2010

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010062568
Aktenzeichen: EP09829574
Anmeldetag: 26. Oktober 2009
Veröffentlichung: 3. Juni 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C01B13/14C08J5/18C08L39/08C08L25/08C08K3/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Micron Technology, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Kunststoff- & Polymertechnik

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