Plasma processing apparatus, apparatus for manufacturing magnetoresistive element, method for forming magnetic thin film and program for controlling film formation

WO2010064493 Art A1 10. Juni 2010

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010064493
Aktenzeichen: EP09830261
Anmeldetag: 15. Oktober 2009
Veröffentlichung: 10. Juni 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/14G11B5/31G11B5/39H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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