Sputtering target for forming perpendicular magnetic recording medium film having low relative permeability

WO2010067446 Art A1 17. Juni 2010

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010067446
Aktenzeichen: EP08878745
Anmeldetag: 11. Dezember 2008
Veröffentlichung: 17. Juni 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung

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