Chamber shield for vacuum physical vapor deposition

WO2010068624 Art A2 17. Juni 2010

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010068624
Aktenzeichen: EP09832445
Anmeldetag: 8. Dezember 2009
Veröffentlichung: 17. Juni 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/203

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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