Immersive oxidation and etching process for cleaning silicon electrodes

WO2010068753 Art A2 17. Juni 2010

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010068753
Aktenzeichen: EP09832536
Anmeldetag: 10. Dezember 2009
Veröffentlichung: 17. Juni 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/34H05H1/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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