Method for forming projected pattern, exposure apparatus and photomask

WO2010070988 Art A1 24. Juni 2010

Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2010070988
Aktenzeichen
EP09833293
Anmeldetag
5. November 2009
Veröffentlichung
24. Juni 2010
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/20G02F1/1335G02F1/1339G03F1/08
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
V Technology Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

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