Insulated gate transistor, active matrix substrate, liquid crystal display unit, and method of production of same

WO2010071159 Art A1 24. Juni 2010

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2010071159
Aktenzeichen
EP09833462
Anmeldetag
16. Dezember 2009
Veröffentlichung
24. Juni 2010
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/336G02F1/1368G09F9/30H01L21/316H01L29/786
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Sharp Kabushiki Kaisha
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

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