Hardmask composition with improved storage stability for forming resist underlayer film

WO2010071255 Art A1 24. Juni 2010

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010071255
Aktenzeichen: EP08878952
Anmeldetag: 31. Dezember 2008
Veröffentlichung: 24. Juni 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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