Method for resist development in narrow high aspect ratio vias

WO2010072246 Art A1 1. Juli 2010

Anmelder: IMEC 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010072246
Aktenzeichen: EP08875510
Anmeldetag: 22. Dezember 2008
Veröffentlichung: 1. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027H01L21/311H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: IMEC
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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