Filter zur Entfernung Molekularer Verunreinigungen aus Gasen
WO2010072333
Art A1
1. Juli 2010
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010072333
- Aktenzeichen
- EP09778903
- Anmeldetag
- 9. Dezember 2009
- Veröffentlichung
- 1. Juli 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B01D53/04B01J47/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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