Pattern measuring apparatus and pattern measuring method

WO2010073360 Art A1 1. Juli 2010

Anmelder: Advantest Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010073360
Aktenzeichen: EP08879156
Anmeldetag: 26. Dezember 2008
Veröffentlichung: 1. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/00H01J37/22H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Advantest Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Advantest

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.

610 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen