Method for measuring thickness of metal film, and method and apparatus for processing substrate

WO2010073935 Art A1 1. Juli 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010073935
Aktenzeichen: EP09834738
Anmeldetag: 15. Dezember 2009
Veröffentlichung: 1. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/06C23C14/14C23C14/54H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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