Polishing liquid composition for magnetic-disk substrate
WO2010074002
Art A1
1. Juli 2010
Anmelder: Kao Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010074002
- Aktenzeichen
- EP09834803
- Anmeldetag
- 18. Dezember 2009
- Veröffentlichung
- 1. Juli 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G11B5/84B24B37/00C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kao Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kao
Japanischer Konsumgüter und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio. Kao entwickelt Produkte und Technologien für Körperpflege, Kosmetik, Haushaltsreiniger sowie chemische Spezialstoffe.
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